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      科普知識
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      粒度儀

      箱式真空氣氛爐提高冷卻速度的方法

      發布日期:2022-05-30 點擊率:21

        箱式真空氣氛爐適用于工礦企業、大專院校、科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品用。可供化學分析、物理測定以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。

        氣氛爐是一種先進實驗設備,適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下,氣氛熱處理的加熱設備。主要用于材料試驗、合成、燒結等。爐體保溫性能良好,節能效果顯著。氣氛爐還可用于、復合材料、粉體材料、結構陶瓷、合金的真空熱壓燒結。

        箱式真空氣氛爐提高冷卻速度有以下幾種方法:

        1、箱式真空氣氛爐內通入氮氣,帶走燒結產品的熱量。

        2、箱式真空氣氛爐底開孔和硅鉬棒的冷端的縫隙形成氣體對流,去除箱式爐內本身的熱量。

        3、循環風冷法,冷卻的時候把充入爐內的氮氣抽出來經過凝塔,再送入爐內,要注意氮氣的泄漏,注意安全循環使用。

        4、改造冷卻的速度,提高相對的工作效率,是每個公司都需要的一種工作狀態,也是一種精神面貌的提升,新方法就是運用在新的技術方面投入新的產品計劃。


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