DNA是納米技術中最常使用的建筑模塊，通常被用來控制建造有序的納米結構。在很大程度上，人們認為DNA有望成為自下而上制造微型電子線路的基本模塊。

　　現(xiàn)在，一組來自美國Brigham Young大學的科學家們把DNA自組織技術同微制造印刷術結合起來，制造納米通道、納米線和納米溝等結構。這項發(fā)現(xiàn)為目前光學印刷術所達不到的尺寸下的納米加工開辟了新的路徑。他們的成果發(fā)表在最新一期的《Small》上。

　　研究人員Adam Woolley和Héctor Becerril發(fā)明了一種利用DNA為模板來定義基底圖案的方法。他們把DNA在基底上排列整齊，再在上面沉積一層金屬膜。DNA分子起納米蠟紙的作用，這樣來在基底上定義一些小于10納米的圖案。由于金屬膜以一定角度沉積，DNA分子的投影來定義基底上圖案的尺度，因此這種方法被研究人員稱為“DNA投影納米印刷術”。

　　此后研究人員使用半導體工業(yè)中常用的活性氣體等離子體對圖案表面進行各向異性刻蝕，在基底上得到了高縱寬比的溝槽。這些溝槽可以在頂端密封，來形成連續(xù)的納米通道；或者可以被化學功能化，作為沉積金屬納米線的模板。這些模板溝槽和制造出的納米線橫截面只有30納米，并能被裁剪成小于10納米。溝槽的確切尺寸可以通過改變沉積角度和沉積厚度來控制。

　　研究人員相信能夠用表面對齊的DNA分子來實現(xiàn)復雜圖案到基底的轉換。Wooley說：“這項技術的特點是能利用DNA形成圖案，而并不需要DNA保持其核酸結構不變。”他認為DNA投影納米印刷術能夠應用在納米流體通道和化學傳感器領域。